實(shí)驗室設備特氣廢氣處理：可燃性、毒性氣體無(wú)害化的處理設備；分為燃燒式、加熱分解式、濕式、觸媒式等離子、分解式、吸著(zhù)式等。

一．主要特點(diǎn)

1. 獨立燃燒方式，完全燃燒的火焰渦流：可燃性毒性氣體從低濃度至100%濃度均可用高溫處理；

2. SiH4與NF3、NO2同時(shí)燃燒：SiH4與NF3、NO2可以同時(shí)于燃燒室中一起 燃燒；

3. 基本功能的安全設計：異常情況發(fā)生時(shí)，診斷機能會(huì )自動(dòng)安全處理；

4. 使用刮刀方式，粉塵處理容易：燃燒室內部的附著(zhù)粉塵，可使用獨立的刮刀容易且確實(shí)地清除；

5. H2、LPG、天然瓦斯(LPG)各種型式：燃料氣體可使用H2、LPG、天然瓦斯(LPG)3 種型式；

6. 保養簡(jiǎn)單：保養可在極短的時(shí)間內完成，費用也低廉；

7. 高信賴(lài)性：構造簡(jiǎn)單且零件數少，值得高度信賴(lài)。

二．處理氣體種類(lèi)

可處理氣體種類(lèi)包括半導體、液晶以及太陽(yáng)能等行業(yè)中蝕刻制程與化學(xué)氣相沉積制程中使用的特氣，主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等。